天津ICP-MS質(zhì)譜儀廠家「在線咨詢」

空白樣品檢測結(jié)果異?？赡苁怯啥喾N原因引起的。除了之前提到的一些因素，還可能包括以下原因：

氣源問題：氬氣等氣源的純度不夠或存在雜質(zhì)，可能影響空白樣品的檢測。

樣品容器污染：用于存放空白樣品的容器可能受到污染，導(dǎo)致空白樣品結(jié)果異常。

靜電干擾：靜電可能對儀器的檢測產(chǎn)生干擾，尤其在干燥環(huán)境中更容易出現(xiàn)。

參數(shù)設(shè)置不當(dāng)：儀器的某些參數(shù)設(shè)置不合適，如霧化氣流量、等離子體功率等，可能影響空白樣品的檢測。

軟件問題：儀器的軟件可能存在故障或錯(cuò)誤，導(dǎo)致數(shù)據(jù)處理異常。

外部干擾源：附近的電磁輻射、振動等外部干擾源可能影響儀器的正常工作。

要解決這些問題，可以嘗試以下方法：

檢查和優(yōu)化氣源，確保氣源的純度和穩(wěn)定性。

清洗或更換樣品容器，避免污染。

控制實(shí)驗(yàn)室的濕度，減少靜電干擾的可能性。

仔細(xì)檢查和調(diào)整儀器的參數(shù)設(shè)置，根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行優(yōu)化。

檢查軟件是否需要更新或重新安裝，確保軟件正常運(yùn)行。

排除外部干擾源，如移動干擾源或?qū)x器進(jìn)行屏蔽防護(hù)。

鋼研納克電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300 儀器特點(diǎn)

1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進(jìn)樣系統(tǒng)；分立式矩管，便于拆卸維護(hù)；可選配半導(dǎo)體制冷進(jìn)樣裝置和自動進(jìn)樣系統(tǒng)。

2. 27.12MHz全固態(tài)RF發(fā)生器，實(shí)現(xiàn)極高的穩(wěn)定性；自動匹配速度快，保證了點(diǎn)火成功率

3. 雙錐接口，可在真空狀態(tài)下直接拆卸維護(hù)

4. 大范圍準(zhǔn)確可調(diào)的三維平臺，實(shí)現(xiàn)矩管全自動定位和校準(zhǔn)

5. 雙離軸離子傳輸（偏轉(zhuǎn)）系統(tǒng)，去除不帶電粒子，保證低噪聲和高靈敏度

6. He氣碰撞池匹配性能高質(zhì)量流量控制器，有效去除多離子干擾

7. 高通量的長四極桿，質(zhì)量范圍2-265amu，分辨率

8. 雙模式檢測器，脈沖計(jì)數(shù)和模擬計(jì)數(shù)檢測，高達(dá)9個(gè)數(shù)量級線性范圍

9.兩只獨(dú)立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統(tǒng)和全自動監(jiān)控系統(tǒng)，確保穩(wěn)定性和靈敏度

10. 無處不在的屏蔽處理，保護(hù)實(shí)驗(yàn)人員安全和儀器穩(wěn)定

11. 通過多項(xiàng)可靠性實(shí)驗(yàn)的考驗(yàn)，保證儀器運(yùn)行和穩(wěn)定

12. 人性化的工作軟件

PlasmaMS 300 鋼研納克

中文軟件界面，符合中國人操作習(xí)慣，用戶靈活保存檢測方法

全方面的狀態(tài)監(jiān)控輸出，錯(cuò)誤主動提示，問題一目了然，極大方便日常維護(hù)

帶有LIMS接口，滿足第三方實(shí)驗(yàn)室的需求

這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質(zhì)譜儀中的干擾，可以采取以下一些方法

干擾校正方程：通過建立干擾校正方程，利用已知的干擾元素和目標(biāo)元素的關(guān)系，對干擾進(jìn)行校正。

內(nèi)標(biāo)法：使用內(nèi)標(biāo)元素來監(jiān)測和校正信號的變化，以補(bǔ)償基體效應(yīng)和其他干擾。

碰撞/反應(yīng)池技術(shù)：利用碰撞/反應(yīng)池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。

選擇合適的質(zhì)量數(shù)：避免選擇受到嚴(yán)重干擾的質(zhì)量數(shù)，或者采用高分辨率質(zhì)譜儀來區(qū)分干擾和目標(biāo)離子。

優(yōu)化儀器參數(shù)：調(diào)整射頻功率、離子源氣體流量等參數(shù)，以減少干擾的影響。

樣品前處理：適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚矸椒梢匀コ蓴_物質(zhì)，如稀釋、萃取、凈化等。

同位素比值測量：通過測量同位素比值，可以消除一些干擾的影響，并提供的分析結(jié)果。

質(zhì)量篩選：利用質(zhì)量篩選技術(shù)，只監(jiān)測特定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的離子，減少干擾的干擾。

數(shù)據(jù)處理方法：采用合適的數(shù)據(jù)處理軟件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，來校正干擾。

標(biāo)準(zhǔn)加入法：通過添加已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)到樣品中，ICP-MS質(zhì)譜儀廠家，校正基體效應(yīng)和干擾。

識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法，并根據(jù)具體的分析需求和樣品特點(diǎn)選擇合適的策略。同時(shí)，定期進(jìn)行質(zhì)量控制和方法驗(yàn)證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。