




德鴻表面處理公司為大家介紹5G智能化時(shí)代對(duì)電鍍技術(shù)的要求
隨著智能化時(shí)代的到來(lái),電子產(chǎn)品越來(lái)越趨向輕量化和微型化,便攜式電子產(chǎn)品的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛,包括可穿戴電子產(chǎn)品和各種內(nèi)置芯片的微型產(chǎn)品。這也給現(xiàn)代制造業(yè)提出了許多新課題,從材料到表面處理等都需要有新的技術(shù)支持。現(xiàn)如今,已經(jīng)是5G的互聯(lián)時(shí)代.時(shí)代的發(fā)展推動(dòng)了我們的經(jīng)濟(jì).
5G技術(shù)的發(fā)展推動(dòng)了硬件發(fā)展,高頻高速和高集成化應(yīng)用場(chǎng)景下的介質(zhì)材料金屬化、互連線路信號(hào)完整性,以及焊接可靠性等都對(duì)表面工程技術(shù)和電子電鍍技術(shù)有著越來(lái)越重要的影響。
電鍍仿1真技術(shù)帶來(lái)更高的成本效益如今,業(yè)界對(duì)工業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量要求越來(lái)越嚴(yán)苛,對(duì)新工藝的探索也越來(lái)越緊迫。然而,目前國(guó)內(nèi)電鍍產(chǎn)品在設(shè)計(jì)、研發(fā)與生產(chǎn)過(guò)程中面臨著普遍的技術(shù)難題。例如,在生產(chǎn)線的優(yōu)化設(shè)計(jì)、掛具設(shè)計(jì)、輔助工具(輔助陽(yáng)極、輔助陰極和電場(chǎng)遮蔽)的使用,以及工藝參數(shù)的設(shè)置等方面,依舊依靠經(jīng)驗(yàn)和試制來(lái)糾錯(cuò),這具有一定的盲目性,鋁排,會(huì)造成了資源的極大浪費(fèi)。
而電鍍仿1真軟件能大大緩解這些難題,它將計(jì)算機(jī)仿1真技術(shù)引入電鍍工藝、工裝和產(chǎn)品結(jié)構(gòu)等各個(gè)階段設(shè)計(jì)之中。該技術(shù)已在歐洲和北美多國(guó)得到廣泛應(yīng)用,并帶來(lái)顯著的經(jīng)濟(jì)效益。我國(guó)對(duì)該技術(shù)的應(yīng)用仍有待發(fā)展。


電鍍是指在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中﹐以被鍍基體金屬為陰極﹐通過(guò)電解作用﹐使鍍液中欲鍍金屬的陽(yáng)離子在基體金屬表面沉積出來(lái)﹐形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬﹐具有新的特征。根據(jù)鍍層的功能分為防護(hù)性鍍層﹐裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。隨著電鍍?cè)谑袌?chǎng)的廣泛應(yīng)用,鋁件加工廠家,下面德鴻表面處理公司小編為大家介紹相關(guān)信息。
鍍層分類:?jiǎn)我唤饘馘儗?;鍍鉻、鍍銅;鍍鎘、鍍錫;鍍鋅;合金鍍層;復(fù)合鍍層
用途分類:防護(hù)性鍍層、防護(hù)性裝飾鍍層、裝飾性鍍層、修復(fù)性鍍層、功能性鍍層
局部電鍍
1、包扎法
2、夾具法
3、蠟劑保護(hù)方法
4、涂料絕緣法


電鍍需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽(yáng)極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同,但均含有提供金屬離子的主鹽,能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑,用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑,陽(yáng)極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤(rùn)濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下,經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子,并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過(guò)程。因此,這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過(guò)程。
在盛有電鍍液的鍍槽中,經(jīng)過(guò)清理和特殊預(yù)處理的待鍍件作為陰極,用鍍覆金屬制成陽(yáng)極,兩極分別與直流電源的負(fù)極和正極聯(lián)接。通電后,電鍍液中的金屬離子,在電位差的作用下移動(dòng)到陰極上形成鍍層。陽(yáng)極的金屬形成金屬離子進(jìn)入電鍍液,以保持被鍍覆的金屬離子的濃度。在有些情況下,鋁件,如鍍鉻,是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽(yáng)極,它只起傳遞電子、導(dǎo)通電流的作用。電解液中的鉻離子濃度,鋁件廠家,需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來(lái)維持。電鍍時(shí),陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì)影響鍍層的質(zhì)量,需要適時(shí)進(jìn)行控制。
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